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申请/专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
摘要：本发明涉及一种用于校准微光刻投射曝光设备110的可操纵光学模块12的方法，该模块包括至少一个操纵元件16，用于设置光学模块的光学特性的至少一维局部变化轮廓18。该方法包括以下步骤:将随时间变化的激励信号43施加到所述至少一个操纵元件；通过测量装置40测量在激励信号变化期间不同时间产生的特定局部变化轮廓18来确定原始测量数据集62；在原始测量数据集的变化轮廓18中估计由激励信号43的时间变化引起的随时间变化的缩放73；通过将随时间变化的缩放73拟合到原始测量数据集的变化轮廓18来确定光学特性的全效应轮廓64；以及基于全效应轮廓64确定可操纵光学模块的校准数据64，66。
主权项：1.一种用于校准微光刻投射曝光设备的可操纵光学模块的方法，该可操纵光学模块包括至少一个操纵元件，用于设置所述光学模块的光学特性的至少一维局部变化轮廓，该方法包括以下步骤:-向所述至少一个操纵元件施加随时间变化的激励信号，-通过测量装置来确定原始测量数据集，该测量装置测量在所述激励信号变化期间的不同时间产生的相应局部变化轮廓，-在所述原始测量数据集的变化轮廓中估计由所述激励信号的时间变化引起的随时间变化的缩放，-通过将所述随时间变化的缩放拟合到所述原始测量数据集的变化轮廓来确定所述光学特性的全效应轮廓，以及-基于所述全效应轮廓确定所述可操纵光学模块的校准数据。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 卡尔蔡司SMT有限责任公司 用于校准可操纵光学模块的方法
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