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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供以良好的位置精度将边缘环载置于静电吸盘的基片支承器和等离子体处理装置。基片支承器包括：基座；第一静电吸盘区域，其配置在所述基座的上部，具有基片支承面，能够在所述基片支承面之上保持基片；和第二静电吸盘区域，其配置在所述基座的上部，以包围所述第一静电吸盘区域的方式设置，具有环支承面，能够在所述环支承面之上保持边缘环，在所述第二静电吸盘区域设置有所述边缘环的定位销，该定位销由线膨胀系数与形成所述第二静电吸盘区域的材料大致相同的材料形成。
主权项：1.一种基片支承器，其特征在于，包括：基座；第一静电吸盘区域，其配置在所述基座的上部，具有基片支承面，能够在所述基片支承面之上保持基片；和第二静电吸盘区域，其配置在所述基座的上部，以包围所述第一静电吸盘区域的方式设置，具有环支承面，能够在所述环支承面之上保持边缘环，在所述第二静电吸盘区域设置有所述边缘环的定位销，该定位销由线膨胀系数与形成所述第二静电吸盘区域的材料大致相同的材料形成。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片支承器和等离子体处理装置
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