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申请/专利权人：深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
摘要：本申请公开了一种等离子体处理设备的控制方法、控制装置及处理设备，涉及等离子体处理技术领域，公开了等离子体处理设备的控制方法，所述等离子体处理设备包括电源电路和等离子体发生器，所述电源电路用于为所述等离子体发生器供电，所述的控制方法包括：获取反应腔室中多个位置的第一等离子体浓度；根据第一等离子体浓度和预设等离子体浓度，调节对应的电源电路的输出功率。本申请通过获取反应腔室中多个位置的第一等离子体浓度，并将第一等离子体浓度和预设等离子体浓度进行比对，最后调节对应的电源电路的输出功率，从而实现在等离子体处理过程中，精准调控等离子体能量，能够自适应调整，从而使等离子体的表面处理过程更加稳定可靠。
主权项：1.一种等离子体处理设备的控制方法，其特征在于，所述等离子体处理包括电源电路和等离子体发生器，所述电源电路用于为所述等离子体发生器供电，所述的控制方法包括：获取反应腔室中多个位置的第一等离子体浓度；根据第一等离子体浓度和预设等离子体浓度，调节对应的电源电路的输出功率；所述电源电路包括偏压电路和电极电路；所述获取反应腔室中多个位置的第一等离子体浓度的步骤，包括：基于光谱仪或质谱仪，测量晶圆表面的等离子体浓度，以及基于离子探针，获取反应腔室的等离子体浓度；所述根据第一等离子体浓度和预设等离子体浓度，调节对应的电源电路的输出功率的步骤，包括：根据晶圆表面的等离子体浓度和预设等离子体浓度，判断晶圆表面是否均匀分布有等离子体；若晶圆表面的等离子体浓度的分布密度超出预设阈值，调整晶圆表面对应位置的偏压电路的大小；根据反应腔室的等离子体浓度和预设等离子体浓度，调节电极电路的放电功率，以维持反应腔室内的等离子体浓度在预设范围内；所述控制方法还包括：获取反应腔室的温度、反应腔室的压力以及晶圆表面温度；根据反应腔室的温度、反应腔室的压力以及晶圆表面温度，确定实际温压偏差；根据实际温压偏差和预设电源温压偏差，确定电源偏差影响系数；根据电源偏差影响系数，调节对应的电源电路的输出功率。
全文数据：
权利要求：
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