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申请/专利权人：恩特格里斯公司
摘要：本发明提供可用于微电子装置、尤其含有一或多个包含疏水性碳或SiC的表面的装置的CMP后清洁的组合物和方法。一般来说，所述组合物包含螯合剂；水可混溶溶剂；还原剂；和pH调节剂，其中所述组合物具有约2到约13的pH。
主权项：1.一种组合物，其包含：a.螯合剂；b.水可混溶溶剂；c.还原剂；和d.pH调节剂，其中所述组合物具有约1.5到约13的pH。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 恩特格里斯公司 微电子装置清洁组合物
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