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申请/专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
摘要：一种反射性光罩及其制造方法，反射性光罩包括基板、设置在基板上的反射性多层、设置在反射性多层上的覆盖层、设置在覆盖层上的光催化层，及设置在光催化层上且携载具有开口的电路图案的吸收层。光催化层的部分在吸收层的开口处被曝光，且光催化层包括选自由氧化钛TiO2、氧化锡SnO、氧化锌ZnO及硫化镉CdS组成的群组的一者。
主权项：1.一种反射性光罩，其特征在于，包括：一基板；一反射性多层，设置在该基板上；一覆盖层，设置在该反射性多层上；一光催化层，设置在该覆盖层上；一吸收层，设置在该光催化层上并携载具有开口的电路图案；以及一缓冲层，在该光催化层与该吸收层之间，该缓冲层携载具有该开口的电路图案，其中：该光催化层的部分在该吸收层的所述开口处曝露，以及该光催化层包括选自由氧化钛TiO2、氧化锡SnO、氧化锌ZnO及硫化镉CdS组成的群组的一者。
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百度查询： 台湾积体电路制造股份有限公司 反射性光罩及其制造方法
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