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申请/专利权人：清华大学
摘要：本发明涉及一种线场色散干涉椭偏测量系统及测量方法，包括：宽光谱光源；色散偏振器件，用于对所述宽光谱光源发射的线偏振光引入正交偏振光的光程差；线场整形器件，设置在待测样品前，用于对发射到待测样品的光进行线场整形；检偏器，用于检测经待测样品出射光的偏振态，确保正交偏振光发生干涉；线场光谱仪，用于对所述检偏器出射的光进行光谱检测；信号处理装置，用于对所述线场光谱仪检测的光谱进行分析处理，获得待测样品的线场椭偏信息。本发明能够实现单次线场双折射相位或膜厚测量，具备高精度、高测速的优势，满足工业现场流水线的测量过程，未来有望应用于膜厚的生长监测或晶体材料的质量检测中。
主权项：1.一种线场色散干涉椭偏测量系统，其特征在于，该系统包括：宽光谱光源；色散偏振器件，用于对所述宽光谱光源发射的线偏振光引入正交偏振光的光程差；线场整形器件，设置在待测样品前，用于对发射到待测样品的光进行线场整形；检偏器，用于检测经待测样品出射光的偏振态，确保正交偏振光发生干涉；线场光谱仪，用于对所述检偏器出射的光进行光谱检测；信号处理装置，用于对所述线场光谱仪检测的光谱进行分析处理，获得待测样品的线场椭偏信息。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 清华大学 一种线场色散干涉椭偏测量系统及测量方法
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