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申请/专利权人：福建华佳彩有限公司
摘要：本发明公开一种改善金属氧化物绝缘层氧化硅龟裂及针孔的制备方法，有别于现行镀膜方式的固定下电极以恒定等离子体的密度及位置进行镀膜的技术手段。本发明采用的是一边镀膜一边不间断微调下电极进行上下活动的动态镀膜方式。镀膜过程电极处于不间断动态调整，可稍微改变等离子状态，达到镀膜不连续效果，起到重新填补氧化硅龟裂作用及针孔不连续效果。本发明动态电极镀膜方式大幅改善金属氧化物绝缘层氧化硅的龟裂及针孔现象，使得金属氧化物绝缘层氧的针孔变得轻微且不连续，发挥阻挡后制程及环境不良掺杂的功能。
主权项：1.一种改善金属氧化物绝缘层氧化硅龟裂及针孔的制备方法，其特征在于：其包括以下步骤：步骤1，将玻璃基板放置在可上下移动调节的下电极上，步骤2，依据设定的镀膜所需电极间距移动下电极至基准位置；步骤3，通过上电极通入镀膜所需气体并由射频功率将镀膜所需气体解离成等离子体以进行镀层，并开始计时镀膜总时间；步骤4，微距离下移下电极，开始计时动态时间；步骤5，判断镀膜总时间是否达到设定镀膜时间；是则，执行步骤10；否则，执行步骤6；步骤6，判断动态时间是否达到设定周期时间；是则，当前动态时间清零并执行步骤7；并执行步骤7；否则，执行步骤5步骤7，微距离上移下电极，开始计时动态时间；步骤8，判断镀膜总时间是否达到设定镀膜时间；是则，执行步骤10；否则，执行步骤9；步骤9，判断动态时间是否达到设定周期时间；是则，当前动态时间清零并执行步骤4；否则，执行步骤8；步骤10，结束镀膜，关闭镀膜所需气体的输入以及射频功率。
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权利要求：
百度查询： 福建华佳彩有限公司 一种改善金属氧化物绝缘层氧化硅龟裂及针孔的制备方法
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