买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

申请/专利权人：赛姆柯(苏州)智能科技有限公司

摘要：本发明公开一种LPCVD双材质真空反应室，其包括反应室、进气组件及出气管，进气组件与外部气源连接，反应室包括外层腔体及设在外层腔体内的内层腔体；进气组件包括至少一个左进气管及至少一个右进气管，每一个左进气管的进气口设置在反应室长度方向的一端部，每一个右进气管的进气口设置在反应室长度方向的另一端部，左进气管和右进气管上均设有多个出气孔。本发明设计的真空反应室，反应室两端均有进气管进行气体扩散，使得反应室内气体分散广泛均匀，出气稳定，提高硅片薄膜均匀性及工艺质量，提高产品优良率；真空反应室采用双层结构，真空性优异，抗冲击性能强，提高整体反应室的强度，提高使用寿命。

主权项：1.一种LPCVD双材质真空反应室，其特征在于，包括具有中空结构的反应室1、设置在反应室1内的进气组件及设置在反应室1端部的出气管2，所述进气组件与外部气源13连接，所述反应室1包括外层腔体11及设置在外层腔体11内的内层腔体12，所述外层腔体11由金属材质制成，所述内层腔体12由石英材质制成；所述外层腔体11为长度方向的一端封闭、另一端开口的筒体结构，所述内层腔体12为其长度方向的两端部均开口的筒体结构；所述外层腔体11的一端部设置有用于密封的金属板6，所述金属板6与反应室1焊接，使得所述外层腔体11的一端部为封闭结构；所述进气组件包括至少一个左进气管3及至少一个右进气管4，每一个左进气管3的进气口设置在反应室1长度方向的一端部，每一个右进气管4的进气口设置在反应室1长度方向的另一端部，所述左进气管3与右进气管4均沿所述反应室1的长度方向延伸，所述左进气管3和右进气管4上均设置有多个间隔设置的出气孔；所述反应室1与炉门配合的端部外套设有由金属材质制成的密封法兰，所述密封法兰的一端面用于与炉门抵触；所述密封法兰的一端面用于与炉门抵触，与炉门抵触的一端面为密封研磨表面；所述密封法兰5远离反应室的圆周外侧部上设置有沿圆周方向的凹槽51；所述进气组件还包括分别设置在反应室1长度方向两端部的气管接头9，每一个气管接头9的一端与左进气管3或右进气管4连接，另一端与外部气源13连接，所述密封法兰5的圆周外侧部设置有至少一个气管接头9；所述反应室1内设置有用于支撑所述左进气管3和右进气管4的支撑件10，所述支撑件10的一端与内层腔体12的内侧壁接触，另一端与左进气管3或右进气管4接触；所述左进气管3和右进气管4之间通过连接件进行连接。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 赛姆柯(苏州)智能科技有限公司 一种LPCVD双材质真空反应室