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真空室破空装置以及真空镀膜设备 

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申请/专利权人:广东振华科技股份有限公司

摘要:本申请公开了一种真空室破空装置以及真空镀膜设备,真空室破空装置应用于真空镀膜设备,真空镀膜设备包括设备本体,设备本体设有真空室,真空室用于供镀膜件放置,真空室破空装置包括:破空组件以及缓冲组件。破空组件包括第一进气管以及第二进气管,第一进气管的出气口以及第二进气管的出气口均与真空室连通,且镀膜件位于第一进气管与第二进气管之间;缓冲组件设置在真空室内,缓冲组件包括第一缓冲件以及第二缓冲件,镀膜件位于第一缓冲件与第二缓冲件之间,第一进气管位于第一缓冲件远离镀膜件的一侧,第二进气管位于第二缓冲件远离镀膜件的一侧。本申请公开了的真空室破空装置能够同时满足提高破空效率与防止镀膜件破碎的需求。

主权项:1.一种真空室破空装置,其特征在于,应用于真空镀膜设备,所述真空镀膜设备包括设备本体,所述设备本体设有真空室,所述真空室用于供镀膜件放置,所述真空室破空装置包括:破空组件,所述破空组件包括第一进气管以及第二进气管,所述第一进气管的出气口以及所述第二进气管的出气口均与所述真空室连通,且所述镀膜件位于所述第一进气管与所述第二进气管之间;缓冲组件,所述缓冲组件设置在所述真空室内,所述缓冲组件包括第一缓冲件以及第二缓冲件,所述镀膜件位于所述第一缓冲件与所述第二缓冲件之间,所述第一进气管位于所述第一缓冲件远离所述镀膜件的一侧,所述第二进气管位于所述第二缓冲件远离所述镀膜件的一侧。

全文数据:

权利要求:

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