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申请/专利权人：天津大学
摘要：本发明公开了一种金属有机框架和多孔氧化石墨烯晶态杂化膜，该晶态杂化膜包括金属有机框架MOF和多孔氧化石墨烯PGO，通过直流电场下共沉积ZIF‑8与荷负电的二维PGO纳米片制备；制备过程中，所述ZIF‑8在基膜上生长的同时，二维PGO纳米片通过氢键、离子键和配位键吸附荷正电的前驱体，并一起沉积在该基膜上，然后，所述二维PGO纳米片诱导ZIF‑8在该二维PGO纳米片上成核和生长，从而增强膜的筛分能力和机械性能。该膜的制备过程主要包括水热法制备PGO纳米片、共沉积法制备MOF‑PGO晶态杂化膜两步。将该膜用于C3H6C3H8体系的常压和高压分离，在不同压力下对C3H6都具有高渗透速率、高选择性，同时该膜具有良好的高压稳定性和长期稳定性。
主权项：1.一种金属有机框架和多孔氧化石墨烯晶态杂化膜，其特征在于，该晶态杂化膜通过直流电场下共沉积ZIF-8与荷负电的二维多孔氧化石墨烯纳米片制备；制备过程中，所述ZIF-8在基膜上生长的同时，所述二维多孔氧化石墨烯纳米片通过氢键、离子键和配位键吸附荷正电的前驱体，并一起沉积在该基膜上，然后，所述二维多孔氧化石墨烯纳米片诱导ZIF-8在该二维多孔氧化石墨烯纳米片上成核和生长，从而得到金属有机框架和多孔氧化石墨烯晶态杂化膜，该晶态杂化膜的厚度为450～520nm。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 天津大学 金属有机框架和多孔氧化石墨烯晶态杂化膜及其制备方法和应用
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