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微型发光二极管装置 

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申请/专利权人:美科米尚技术有限公司

摘要:一种微型发光二极管装置包含基板、微型发光二极管以及透明顶电极。微型发光二极管设置于基板上,并包含p型GaN层、在p型GaN层上方的n型GaN层、在n型GaN层上方且与n型GaN层接触的n型掺杂AlxGa1‑xN层以及在p型GaN层与n型GaN层之间的主动层。x等于或大于0.02且小于1。透明顶电极覆盖并接触n型掺杂AlxGa1‑xN层。n型掺杂AlxGa1‑xN层的折射率小于n型GaN层的折射率。n型GaN层与n型掺杂AlxGa1‑xN层的厚度的总和大于主动层与p型GaN层的厚度的总和。借此,可以有效提高微型发光二极管的出光效率。

主权项:1.一种微型发光二极管装置,其特征在于,包含:基板;微型发光二极管,具有小于100微米的横向宽度,设置于该基板上,并包含:p型GaN层;n型GaN层,在该p型GaN层上方;n型掺杂AlxGa1-xN层,在该n型GaN层上方且与该n型GaN层接触,其中x等于或大于0.02且小于1,且该n型掺杂AlxGa1-xN层的厚度大于10纳米;以及主动层,在该p型GaN层与该n型GaN层之间;以及透明顶电极,至少部分地覆盖并接触该n型掺杂AlxGa1-xN层;其中该n型掺杂AlxGa1-xN层的折射率小于该n型GaN层的折射率,其中该p型GaN层、该主动层、该n型GaN层与该n型掺杂AlxGa1-xN层的厚度的总和大于400纳米,其中该n型GaN层与该n型掺杂AlxGa1-xN层的所述厚度的总和大于该主动层与该p型GaN层的所述厚度的总和。

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