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一种高耐候、抗蓝光防窥膜及制备工艺 

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申请/专利权人:智谱纳米科技(上海)有限公司

摘要:本申请涉及防窥膜领域,具体公开了一种高耐候、抗蓝光防窥膜及制备工艺,防窥膜包括基材层、复合在基材层上的连接层以及黑胶层;连接层厚度为50‑100μm;连接层经由改性胶进行压印,以形成多个连续间隔设置的长条形槽,最后经固化成型后得到;长条形槽宽度为5‑9μm,长条形槽的深度为60‑80μm;改性胶包括以下重量份的原料:吸收剂0.8‑2份,氧化剂1‑2份,光引发剂3‑8份,UV单体30‑50份,环氧丙烯酸酯树脂15‑25份,UV成型树脂20‑30份,消泡剂0.5‑1份,流平剂0.5‑1份。本申请可有效解决防窥膜产生叠影和成像清透性不佳的问题,同时使得防窥膜具有优异的防蓝光性能和耐候性。

主权项:1.一种高耐候、抗蓝光防窥膜,其特征在于,包括基材层(1)、复合在基材层上的连接层(2)以及黑胶层(3);所述连接层(2)厚度为50-100μm;所述连接层(2)经由改性胶进行压印,以形成多个连续间隔设置的长条形槽(4),最后经固化成型后得到;所述长条形槽(4)宽度为5-9μm,所述长条形槽(4)的深度为60-80μm;所述黑胶层(3)经由黑胶填充至长条形槽(4)内,经固化成型后形成黑胶层(3);所述改性胶包括以下重量份的原料:吸收剂0.8-2份,氧化剂1-2份,光引发剂3-8份,UV单体30-50份,环氧丙烯酸酯树脂15-25份,UV成型树脂20-30份,消泡剂0.5-1份,流平剂0.5-1份;UV成型树脂为脂肪族聚氨酯甲酸酯二丙烯酸酯低聚物;所述黑胶包括质量比为92-96:4-8的UV色浆与改性胶;所述长条形槽(4)的槽底与连接层底壁的距离为5.8-9µm,相邻所述长条形槽(4)之间的距离为30-40µm。

全文数据:

权利要求:

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