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等离子体处理装置 

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申请/专利权人:东京毅力科创株式会社

摘要:本发明能够在等离子体处理装置的联锁机构动作时,保护搭载在等离子体处理装置中的电子器件。一种等离子体处理装置,其特征在于,包括:等离子体处理腔室;配置在等离子体处理腔室内的基座,其具有传热介质流路和空间;配置在基座上的静电卡盘;配置在静电卡盘内的第1加热器元件;配置在空间内的第2加热器元件;配置在空间内的控制电路板,其包括与第1加热器元件和第2加热器元件中的至少任一者电连接的至少一个控制元件;和恢复电路,其电连接在第2加热器元件与至少一个控制元件之间,能够基于空间内的温度对第2加热器元件供给电功率。

主权项:1.一种等离子体处理装置,其特征在于,包括:等离子体处理腔室;配置在所述等离子体处理腔室内的基座,其具有传热介质流路和空间;配置在所述基座上的静电卡盘;配置在所述静电卡盘内的至少一个第1加热器元件;配置在所述空间内的第1控制电路板,其包括与至少一个所述第1加热器元件电连接的至少一个控制元件;配置在所述空间内的第2控制电路板,其包括与至少一个所述控制元件电连接的至少一个第2加热器元件;和恢复电路,其电连接在至少一个所述控制元件与至少一个所述第2加热器元件之间,包括并联连接的多个电路段,所述多个电路段中的第1电路段包括串联连接的至少一个第1蓄电元件和第1开关元件,所述第1开关元件能够基于所述空间内的温度进行开关动作。

全文数据:

权利要求:

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