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一种集成电路失效边界求解方法及装置、电子设备、介质 

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申请/专利权人:上海超捷芯软科技有限公司

摘要:本申请提供一种集成电路失效边界求解方法及装置、电子设备、介质,应用于集成电路设计技术领域,其中:先将集成电路的电路性能表示为工艺偏差变量的二次多项式模型,并构建出二次多项式模型对应的具有二次约束的二次规划问题;然后,将二次规划问题松弛为半正定规划问题;最后,通过半正定规划求解出最优解。通过不对二次规划问题直接求解,而是转换为半正定问题进行求解,不仅能够简化最优解的求解过程,提升求解效率,而且基于半正定求解,能够保证求解到全局最优解,避免了局部最优解的搜索,同样能够简化最优解的求解过程,以及提高了最优解的准确性,保证集成电路设计具有非常好的可靠性。

主权项:1.一种集成电路失效边界求解方法,其特征在于,包括:将集成电路的电路性能表示为工艺偏差变量的二次多项式模型,并构建出二次多项式模型对应的具有二次约束的二次规划问题;将二次规划问题松弛为半正定规划问题;通过半正定规划求解出最优解,其中最优解为在满足电路性能失效的前提下,使工艺偏差的二范数最小化的解,所述最优解用于形成集成电路的失效边界;其中,将二次规划问题松弛为半正定规划问题,包括:先将二次优化问题转换为拉格朗日对偶问题;其中,构建拉格朗日函数如下: 以及,对偶函数如下: 其中,A0、A1、b0、b1、c0、c1为二次优化问题的常量系数;为A0+A1为半正定时的取值;然后应用舒尔补将对偶问题表示为半正定规划问题;其中,将对偶问题表示为如下形式: 其中,和为半正定规划问题的两个优化变量;当给定电路性能失效取值,构建的所述二次规划问题为: 其中,x为电路性能二次模型中的工艺偏差向量,fspec为已知的电路性能失效取值,二次规划问题的优化目标为确定在满足fx=≥fspec条件下的最小距离dist的取值问题;A、b、c为二次规划模型的常量系数,其中A为方阵,大小与工艺偏差向量的长度相同,b为向量,长度与工艺偏差向量的长度相同,c为标量;在转化为半正定规划问题前,将所构建的所述二次规划问题变换为如下形式的二次优化问题: 其中,转换前后的常量关系如下:A0为单位矩阵,b0为零向量,c0为0;A1为-A,b1为-b,c1为fspec-c。

全文数据:

权利要求:

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