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申请/专利权人：三星SDI株式会社
摘要：公开一种硬掩模组合物、包含所述硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层以及使用包含所述硬掩模组合物的固化产物的所述硬掩模层来形成图案的方法。所述硬掩模组合物包含：由以下化学式1表示的化合物；以及溶剂，[化学式1]
主权项：1.一种硬掩模组合物，包括：由化学式1表示的化合物的自聚物；以及溶剂，[化学式1] 其中，在化学式1中，A是通过饱和或不饱和键形成的5元或6元的环，其中所述环的骨架完全由经取代或未经取代的碳原子组成或者具有至少一个碳原子被氧原子或氮原子置换，L1及L2各自独立地为-C＝OH，R1及R2各自独立地为氘、卤素原子、羟基、经取代或未经取代的C1至C30烷氧基、经取代或未经取代的C1至C30烷基、经取代或未经取代的C2至C30烯基、经取代或未经取代的C2至C30炔基、经取代或未经取代的C3至C30环烷基、经取代或未经取代的C1至C30杂烷基或者经取代或未经取代的C1至C30杂环烷基，m1及m2各自独立地为0或1，且m1+m2＝1，n1为0到3的整数，n2为0或1，k为0或1，且如果k＝0，则m1＝1。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三星SDI株式会社 硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法
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