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申请/专利权人：苏州恒悦新材料股份有限公司
摘要：本发明公开了低析出及低污染光学保护膜，包括保护膜主体，保护膜主体包括基材层、功能涂层、粘合层和保护层，功能涂层设置在基材层一侧，粘合层设置在基材层另一侧，功能涂层包括抗污染涂层和低析出涂层，低析出涂层设置在抗污染涂层上侧，抗污染涂层设置在基材层上侧，抗污染涂层包含功能性纳米颗粒，用于提高抗污染能力，低析出涂层采用低析出聚合物材料，用于降低析出物的生成，保护膜主体的总厚度为100‑130um，功能涂层厚度占总厚度比为20％‑30％。本发明的光学保护膜通过设置的抗污染涂层、低析出涂层，能够有效防止灰尘和污垢的附着，并且在使用过程中不会产生有害析出物，从而确保光学器件的长期清洁和透明。
主权项：1.低析出及低污染光学保护膜，包括保护膜主体1，其特征在于，所述保护膜主体1包括基材层5、功能涂层、粘合层3和保护层2，所述功能涂层设置在所述基材层5一侧，所述粘合层3设置在所述基材层5另一侧，所述功能涂层包括抗污染涂层6和低析出涂层7，所述低析出涂层7设置在所述抗污染涂层6上侧，所述抗污染涂层6设置在所述基材层5上侧，所述抗污染涂层6包含功能性纳米颗粒，用于提高抗污染能力，所述低析出涂层7采用低析出聚合物材料，用于降低析出物的生成，所述保护膜主体1的总厚度为100-130um，所述功能涂层厚度占总厚度比为20％-30％，所述保护层2厚度占总厚度比为5％-10％，所述基材层5厚度占总厚度比为40％-60％，所述粘合层3的厚度占总厚度比为10％-20％。
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权利要求：
百度查询： 苏州恒悦新材料股份有限公司 低析出及低污染光学保护膜
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