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一种高纯铬靶材及其制备方法 

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申请/专利权人:西安稀有金属材料研究院有限公司

摘要:本发明公开了一种高纯铬靶材的制备方法,该制备方法包括以下步骤:步骤一、冷等静压:将铬粉末真空封装处理放入冷等静压机内冷压处理,得到铬块;步骤二、烧结:将铬块进行烧结处理,得到铬坯料;步骤三、热锻;步骤四、退火;步骤五、热轧;步骤六、加工:将铬坯料依次进行机加工、清洗处理、真空封装,得到高纯铬靶材;本发明还公开了一种高纯铬靶材。本发明的制备方法通过采用冷等静压、烧结、热锻、退火的工艺结合,通过调整各阶段工艺参数来调控铬靶材组织结构,制备出不同尺寸、组织均匀、晶粒细小、高质量纯度的铬靶材,适用于高性能溅射靶材加工技术领域。

主权项:1.一种高纯铬靶材的制备方法,其特征在于,该制备方法包括以下步骤:步骤一、冷等静压:将铬粉末进行真空封装处理,随后放入冷等静压机的腔体内进行冷压处理,得到铬块;步骤二、烧结:将步骤一中得到的铬块进行烧结处理,得到铬坯料;步骤三、热锻:将步骤二中得到的铬坯料进行热锻处理;步骤四、退火:将步骤三中完成热锻的铬坯料进行退火处理;步骤五、热轧:将步骤四中完成退火的铬坯料进行热轧处理;步骤六、加工:将步骤五中热轧后的铬坯料依次进行机加工、清洗、真空封装,得到高纯铬靶材。

全文数据:

权利要求:

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