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申请/专利权人：合肥维信诺科技有限公司;维信诺科技股份有限公司
摘要：本申请公开了一种阵列基板、显示面板、显示装置和阵列基板的制备方法。阵列基板包括衬底和隔离结构。第一层和第二层设置形成隔离结构，靠近衬底设置的第一层在衬底的正投影位于第二层在衬底的正投影之内。第一层在衬底的正投影边缘和第二层在衬底的正投影边缘之间的距离为延伸距离，延伸距离为0.1μm～1μm，延伸距离相对于相关技术中的延伸距离有所降低，减少第二层相对于第一层的突出部分的尺寸，降低第二层突出部分的下榻可能性，改善位于隔离结构上方的第一封装层由于第二层突出部分下榻而发生膜层脱落或者翘起等不良，从而提高阵列基板的使用性能。
主权项：1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：衬底；隔离结构，位于所述衬底的一侧，所述隔离结构围合形成多个隔离开口，所述隔离结构包括第一层和位于所述第一层背离所述衬底一侧的第二层，所述第一层在所述衬底的正投影位于所述第二层在所述衬底的正投影之内；其中，所述第一层在所述衬底的正投影边缘与所述第二层在所述衬底的正投影边缘之间的距离为延伸距离，所述延伸距离为0.1μm～1μm。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 合肥维信诺科技有限公司 维信诺科技股份有限公司 阵列基板、显示面板、显示装置和阵列基板的制备方法
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