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通过高温退火方式调控硅片背面光泽度的控制系统及方法 

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申请/专利权人:杭州中欣晶圆半导体股份有限公司

摘要:本发明公开了通过高温退火方式调控硅片背面光泽度的控制系统及方法,包括箱体,所述箱体的底部固定连接有底座,所述箱体的顶部固定连接有退火箱,所述退火箱的一侧固定连接有支架板,且支架板固定安装在箱体的顶部,本发明涉及硅片加工技术领域。该通过高温退火方式调控硅片背面光泽度的控制系统及方法,通过设置有退火旋转机构,利用吸力盘和挤压弹簧的弹性对硅片进行固定,并利用驱动电机带动驱动转轴的转动,驱动转轴配合上驱动齿轮和传动齿轮的啮合使得支撑转轴转动,即可实现对硅片进行转动退火,不仅可以实现退火时的均匀,而且避免了产品的堆叠造成不必要的影响,以便于提高硅片的加工后的质量。

主权项:1.通过高温退火方式调控硅片背面光泽度的控制系统,包括箱体1,所述箱体1的底部固定连接有底座2,所述箱体1的顶部固定连接有退火箱3,所述退火箱3的一侧固定连接有支架板4,且支架板4固定安装在箱体1的顶部,其特征在于:所述退火箱3的内部设置有退火旋转机构5,所述退火箱3的顶部设置有浓度调节机构6,所述浓度调节机构6通过控制系统7进行操控调节;所述退火旋转机构5中包括驱动电机51、支撑转轴52和相互对称的圆板53,两个圆板53之间固定连接有承物板54,且圆板53的一侧通过伸缩组件55进行移动,延伸端所述圆板53的一侧通过卡接组件56与退火箱3固定,所述承物板54的内部设置有硅片稳固机构57,所述驱动电机51固定安装在退火箱3的表面,所述驱动电机51输出轴的一端通过联轴器固定连接有驱动转轴58,所述驱动转轴58的外表面固定连接有驱动齿轮59,所述支撑转轴52的外表面固定连接有传动齿轮510,所述驱动齿轮59和传动齿轮510的外表面啮合,所述支撑转轴52的外表面通过滑动组件511与圆板53连接;所述硅片稳固机构57中包括第一转动杆57-1、第二转动杆57-2、第一圆弧板57-3和第二圆弧板57-4,所述第一圆弧板57-3和第二圆弧板57-4的外表面均与承物板54的表面固定连接,所述第一转动杆57-1和第二转动杆57-2的外表面均固定连接有转动轴承57-5,所述转动轴承57-5的外表面镶嵌在第一圆弧板57-3和第二圆弧板57-4的内部,所述第一转动杆57-1的一端和第二转动杆57-2的两端均固定连接有挤压弹簧57-6,所述挤压弹簧57-6的一端固定连接有吸力盘57-7;所述浓度调节机构6中包括储液箱61和扭动杆62,所述扭动杆62的一端固定连接有挡液板63,所述储液箱61的底部固定连接有分流板64,且分流板64的底部与退火箱3的顶部固定连通,所述储液箱61的底部开设有转动槽65,所述转动槽65的内表面开设有出液槽66,所述转动槽65的内表面且位于出液槽66的一侧固定连接有限位板67,所述扭动杆62的一端与转动槽65的表面转动连接,所述扭动杆62的一端贯穿延伸至储液箱61的外部,且扭动杆62的顶部固定连接有转动盘68,所述转动盘68和储液箱61的相对侧之间固定连接有复位弹簧69;所述控制系统7中包括数据采集模块71、数据中央处理器72、数据分析模块73、调节控制模块74、腐蚀液浓度调控模块75、退火温度调控模块76、数据反馈模块77和光泽度数值数据库78,所述数据采集模块71的输出端与数据中央处理器72的输入端连接,所述数据中央处理器72的输出端与数据分析模块73的输入端连接,所述数据分析模块73的输出端与调节控制模块74的输入端连接,所述调节控制模块74的输出端与腐蚀液浓度调控模块75和退火温度调控模块76的输入端连接,所述腐蚀液浓度调控模块75和退火温度调控模块76的输出端与数据反馈模块77的输入端连接,所述数据反馈模块77的输出端与数据采集模块71的输入端连接,所述光泽度数值数据库78的输出端与数据分析模块73的输入端连接。

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