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用于检测溶液结晶过程的原位XRD检测设备及方法 

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申请/专利权人:西湖大学

摘要:本公开涉及用于检测溶液结晶过程的原位XRD检测设备及方法。该检测设备包括:原位XRD装置,其用于溶液样品在结晶过程中的不同温度下XRD图谱的采集;原位腔体,其设置在原位XRD装置中;样品架,其设置于所述原位腔体的内部并被配置成用于容纳待检测的所述溶液样品;以及冷却介质循环系统。样品架包括:样品架主体限定于其中的凹槽部;至少一层背景衍射材料,其层叠铺设于并覆盖凹槽部的底部;多孔材料,其被配置成用于吸附所述溶液样品;以及密封薄膜,其覆盖在所述多孔材料的上表面。该检测设备和检测方法,结构简单且操作简便,能够对溶液样品在降温结晶过程中的晶体析出进行高精度地监测,填补了在该领域的技术空白。

主权项:1.一种用于检测溶液结晶过程的原位XRD检测设备,其特征在于,所述原位XRD检测设备包括:原位XRD装置,其包括Cu转靶线光源以及二维面探测器,并且被配置成用于溶液样品在结晶过程中的不同温度下XRD图谱的采集;原位腔体,其设置在所述原位XRD装置中;样品架,其设置于所述原位腔体的内部并被配置成用于容纳待检测的所述溶液样品;以及冷却介质循环系统,其被配置成用于控制冷却介质的循环以降低所述样品架内部的温度;其中,所述样品架包括:样品架主体,其被配置成与固定设置在所述原位腔体中的底座接合,并包括限定于其中的凹槽部;至少一层背景衍射材料,其层叠铺设于并覆盖所述凹槽部的底部,所述背景衍射材料具有比所述样品架主体低的衍射信号,从而避免所述样品架主体衍射信号对检测结果的干扰;多孔材料,其层叠铺设于所述至少一层背景衍射材料上方并且其上表面与所述样品架主体的边缘上表面齐平,所述多孔材料被配置成用于吸附所述溶液样品;以及密封薄膜,其覆盖在所述多孔材料的上表面以实现对所述溶液样品的密封,以减少溶剂挥发对结晶过程的影响。

全文数据:

权利要求:

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