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具有透明电极的硅调制器 

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申请/专利权人:重庆邮电大学

摘要:本发明涉及一种具有透明电极的硅调制器,属于半导体技术领域。该硅调制器由下到上包括衬底、介质层、脊型波导或条形波导、第一透明电极、第二透明电极、第一接触金属和第二接触金属;脊型波导包括P掺杂区、N掺杂区、P+区、P++区、N+区和N++区;条形波导包括P掺杂区和N掺杂区。本发明能提高硅调制器带宽。

主权项:1.一种具有透明电极的硅调制器,包括衬底3和介质层2,所述介质层2设置在衬底3上;其特征在于,该硅调制器还包括脊型波导、第一透明电极108、第二透明电极101、第一接触金属130和第二接触金属131;所述脊型波导设置在介质层上;所述脊型波导包括一个PN结、P+区106、P++区107、N+区103和N++区104;所述PN结包括一个P掺杂区105和一个与其右侧相邻的N掺杂区102;所述P+区106右侧与P掺杂区105左侧下半部分相邻;所述P++区107右侧与P+区106左侧相邻;所述N+区103左侧与N掺杂区102右侧下半部分相邻;所述N++区104左侧与N+区103右侧相邻;所述第一透明电极108同时设置在P掺杂区105、P+区106和P++区107上,所述第一透明电极108和P++区107形成隧穿结欧姆接触,所述第一透明电极108和P掺杂区105形成欧姆接触;所述第二透明电极101同时设置在N掺杂区102、N+区103和N++区104上,所述第二透明电极101和N++区104形成隧穿结欧姆接触,所述第二透明电极101和N掺杂区102形成肖特基接触;所述第一接触金属130设置在所述P++区107上;所述第二接触金属131设置在N++区104上。

全文数据:

权利要求:

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