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申请/专利权人：武汉微纳百材生物科技有限公司
摘要：本实用新型涉及高温烧结技术领域，尤其涉及一种制备高纯纳米材料的装置。其包括U形架和烧结炉，U形架内侧的顶部转动设置有转轴，烧结炉设置在转轴中部，烧结炉顶部连通有进料管，底部连通有出料管，U形架垂直段的外侧侧设置有驱动烧结炉转动的摇匀组件，U形架水平段的上端面设置有与烧结炉转动配合的限位支撑组件。本实用新型将烧结炉通过限位支撑组件和摇匀组件配合设置在U形架上，通过连接轴、摇板、减速轴、转盘、导轴、调节机构和减速机构的配合，可在烧结过程中，带动烧结炉以一定角度进行往复摆动，摆动过程中，其内部的纳米材料会被摇匀，并不断变换位置，进而提高了材料整体烧结的均匀度，提高了制备效率。
主权项：1.一种制备高纯纳米材料的装置，其特征在于，包括U形架1和烧结炉2，U形架1内侧的顶部转动设置有转轴3，烧结炉2设置在转轴3中部，烧结炉2顶部连通有进料管4，底部连通有出料管5，U形架1垂直段的外侧侧设置有驱动烧结炉2转动的摇匀组件，U形架1水平段的上端面设置有与烧结炉2转动配合的限位支撑组件；摇匀组件包括连接轴6、摇板7、减速轴8、转盘9、导轴10、调节机构和减速机构，连接轴6一端与转轴3连接，另一端穿过U形架1连接有摇板7，摇板7中部开设有条形槽11，减速轴8贯穿设置在固定架一侧，减速轴8一端设置有减速机构，另一端设置有位于摇板7内侧面的转盘9，转盘9侧面的偏心处通过调节机构设置有导轴10，导轴10一端穿过条形槽11延伸至外侧；限位支撑组件包括弧形导轨20、支撑座19和滚轮21，弧形导柱设置有两组，分别斜向对称设置在U形架1的内侧，支撑座19设置有四组，分别位于烧结炉2底部两侧的两端，支撑座19的底端转动设置有滚轮21。
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权利要求：
百度查询： 武汉微纳百材生物科技有限公司 一种制备高纯纳米材料的装置
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