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申请/专利权人：上海朋熙半导体有限公司
摘要：本申请涉及信息技术领域，提供一种光刻掩膜版的缺陷检测方法、设备、介质及产品。本申请的光刻掩膜版的缺陷检测方法包括：获取当前光刻掩膜版的图片数据；将所述当前光刻掩膜版的图片数据发送到训练完成的光刻掩膜版缺陷识别模型中，得到当前光刻掩膜版的缺陷数据；基于所述当前光刻掩膜版的缺陷数据，有选择性地确定当前所述当前光刻掩膜版的缺陷数据对当前光刻掩膜版的质量影响数据的类别，通过上述配置方式，本申请能够自动识别光刻掩膜版的缺陷，并确认光刻掩膜版的缺陷对光刻掩膜版质量的影响。
主权项：1.一种光刻掩膜版的缺陷检测方法，其特征在于，包括：获取当前光刻掩膜版的图片数据；将所述当前光刻掩膜版的图片数据发送到训练完成的光刻掩膜版缺陷识别模型中，得到当前光刻掩膜版的缺陷数据；基于所述当前光刻掩膜版的缺陷数据，有选择性地确定当前所述当前光刻掩膜版的缺陷数据对当前光刻掩膜版的质量影响数据的类别。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海朋熙半导体有限公司 一种光刻掩膜版的缺陷检测方法、设备、介质及产品
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