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申请/专利权人：江西兆驰半导体有限公司
摘要：本实用新型公开了一种用于光刻胶曝光的光罩板，涉及光刻设备领域。具体的，用于光刻胶曝光的光罩板包括透光区域和阻光区域，所述透光区域包括光刻图形透光区域和非图形透光区域；所述非图形透光区域包括至少一个环绕所述光刻图形透光区域设置的透光环，所述透光环与所述光刻图形透光区域之间设有阻光环；所述透光环的外轮廓形状与所述光刻图形透光区域的外轮廓形状相同或不同。本实用新型的光罩板可改变曝光能量的分布，进而对非光刻图型区域也形成一定的曝光，进而在显影后去除，减小了显影后光刻胶层的侧壁角度。
主权项：1.一种用于光刻胶曝光的光罩板，其特征在于，包括透光区域和阻光区域，所述透光区域包括光刻图形透光区域和非图形透光区域；所述非图形透光区域包括至少一个环绕所述光刻图形透光区域设置的透光环，所述透光环与所述光刻图形透光区域之间设有阻光环；所述透光环的外轮廓形状与所述光刻图形透光区域的外轮廓形状相同或不同。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 江西兆驰半导体有限公司 用于光刻胶曝光的光罩板
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