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高性能低功率3D SRAM单元及工艺集成流程 

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申请/专利权人:IMEC非营利协会;鲁汶天主教大学

摘要:本公开涉及三维3D静态随机存取存储器SRAM,并提供一种3DSRAM单元和用于加工该3DSRAM的晶体管的方法。SRAM单元包括被布置在第一层级中的两个PU晶体管、被布置在位于第一层级上方或下方的第二层级中的两个PD晶体管、以及被布置在第一层级或第二层级中的两个PG晶体管。PU晶体管和PD晶体管形成一对交叉耦合的反相器。在第一替换方案中,各晶体管都是鳍式晶体管,每一PU晶体管具有第一数目的鳍,每一PD晶体管具有第二数目的鳍,并且如果PG晶体管被布置在第一层级中,则第一数目与第二数目之比是2:1,或者如果PG晶体管被布置在第二层级中,则第一数目与第二数目之比是1:2。

主权项:1.一种三维3D静态随机存取存储器SRAM单元100,400,500,1100,1400,1700,包括:布置在所述SRAM单元100,400,500,1100,1400,1700的第一层级101中的两个上拉PU晶体管;布置在所述SRAM单元100,400,500,1100,1400,1700的第二层级102中的两个下拉PD晶体管,所述第二层级102布置在所述第一层级101上方或下方;其中所述两个PU晶体管和所述两个PD晶体管形成一对交叉耦合的反相器;以及布置在所述第一层级101或所述第二层级102中的两个传输门PG晶体管;其中在所述SRAM单元100,400,500,1100,1400,1700中:每一晶体管是鳍式晶体管,每一PU晶体管具有第一数目的鳍1a,每一PD晶体管具有第二数目的鳍2b,并且如果PG晶体管被布置在所述第一层级101中,则所述第一数目与所述第二数目之比是2:1,或者如果PG晶体管被布置在所述第二层级102中,则所述第一数目与所述第二数目之比是1:2;或者每一晶体管是基于纳米片的晶体管,每一PU晶体管具有第一纳米片1b,1c宽度,每一PD晶体管具有第二纳米片2b,2c宽度,并且如果PG晶体管被布置在所述第一层级101中,则所述第一纳米片宽度与所述第二纳米片宽度之比是2:1,或者如果PG晶体管被布置在所述第二层级102中,则所述第一纳米片宽度与所述第二纳米片宽度之比是1:2。

全文数据:

权利要求:

百度查询: IMEC非营利协会 鲁汶天主教大学 高性能低功率3D SRAM单元及工艺集成流程

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