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申请/专利权人：新应材股份有限公司
摘要：一种正型光阻组成物，包括：A聚酰亚胺树脂、B感光性化合物以及C溶剂。A聚酰亚胺树脂是由a二胺与b四羧酸二酐进行聚合反应而得，且具有式1所示的结构单元；其中，式1的Ar1为四价有机基，Ar2为二价有机基，且Ar1为式B‑1、式B‑2、式B‑3所示的基或其组合，Ar2至少为式A‑1、式A‑2所示的基或其组合，此外Ar2可进一步为式A‑3、式A‑4、式A‑5所示的基或其组合。本揭露还提供了一种负型光阻图案的微影制程方法。
主权项：1.一种正型光阻组成物，其特征在于，包括：A聚酰亚胺树脂；所述A聚酰亚胺树脂是由a二胺与b四羧酸二酐进行聚合反应而得，且具有式1所示的结构单元 B感光性化合物；以及C溶剂；其中，式1的Ar1为四价有机基，Ar2为二价有机基，且Ar1为式B-1、式B-2、式B-3所示的基或其组合 *表示表示键结位置；式1的Ar2包含式A-1、式A-2所示的基或其组合 其中，式A-1的m1及m2各自为1-3的整数，X1各自为碳原子数为1至5的伸烷基或伸苯基；其中，当X1为碳原子数为1至5的伸烷基时，所述碳原子数为1至5的伸烷基中的任一个-CH2-可被-NH-取代；式A-2的X2为碳原子数为1至10的烃基、-O-、-S-、-SO2-、-NH-、-CCF32-或
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百度查询： 新应材股份有限公司 正型光阻组成物以及负型光阻图案的微影制程方法
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