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申请/专利权人：华南师范大学
摘要：本发明涉及一种具有褶皱结构的自支撑铁电薄膜及其制备方法，制备方法包括以下步骤：在001方向的SrTiO3单晶衬底上沉积Sr2CaAl2O6薄膜作为牺牲层；在牺牲层上沉积SrRuO3导电层作为底电极；在底电极上沉积菱方相的铁电薄膜；溶解牺牲层后将薄膜样品转移至硅纳米岛阵列上，即得具有褶皱结构的自支撑铁电薄膜。本发明通过在铁电层和衬底之间生长一层牺牲层，利用牺牲层可溶解于水的特性，将铁电层从原衬底上剥离出来，然后重新转移到硅纳米岛阵列上，由于硅纳米岛阵列的支撑作用，形成了规则有序的大面积的褶皱结构。经过测试，本发明制得的具有褶皱结构的自支撑铁电薄膜具有高结晶度和优良的铁电性。
主权项：1.一种具有褶皱结构的自支撑铁电薄膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：制备硅纳米岛阵列；在001方向的SrTiO3单晶衬底上沉积Sr2CaAl2O6薄膜作为牺牲层；在所述牺牲层上沉积SrRuO3导电层作为底电极；在所述底电极上沉积菱方相的铁电薄膜；溶解所述牺牲层后将薄膜样品转移至硅纳米岛阵列上，即得具有褶皱结构的自支撑铁电薄膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 华南师范大学 一种具有褶皱结构的自支撑铁电薄膜及其制备方法
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