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申请/专利权人:北京晶亦精微科技股份有限公司
摘要:本发明提供了一种抛光液流动轨迹可视化方法及装置,包括以下步骤将显影粒子和两种荧光染剂分别放入抛光液中,安装透明待抛光件至抛光设备的旋转主轴上,启动抛光设备,喷淋抛光液至抛光垫上;利用紫外线灯照射透明待抛光件,借助摄像机采集第一抛光指标和第二抛光指标、并推导出抛光液的液膜厚度、界面接触状态以及界面摩擦系数。本发明提供的抛光液流动轨迹可视化方法,通过在抛光液中添加显影粒子和两种荧光染剂,可方便地在化学机械抛光过程中采集“晶圆‑抛光液‑抛光垫”界面的原位数据,以便更好地收集抛光指标,进而推动人们对化学机械抛光技术的进一步优化。
主权项:1.抛光液流动轨迹可视化方法,其特征在于,包括以下步骤:S100:将显影粒子和两种荧光染剂分别放入抛光液中,安装透明待抛光件至抛光设备的旋转主轴上,启动所述抛光设备,喷淋所述抛光液至抛光垫上;S200:利用双发射紫外激光脉冲器分两次依次照射所述透明待抛光件作用的界面位置,应用双发射紫外线荧光技术、借助摄像机分两次分别采集所述界面位置的第一抛光指标;S300:关闭所述双发射紫外激光脉冲器,应用显影粒子示踪技术、借助摄像机采集所述界面位置的第二抛光指标;S400:根据两次获得的所述第一抛光指标推导获得所述抛光液的液膜厚度;S500:根据所述第一抛光指标和两次获得的所述第二抛光指标获得界面接触状态以及界面摩擦系数。
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权利要求:
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