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申请/专利权人：凸版光掩模有限公司
摘要：本公开的目的在于提供一种最大限度地利用相移效应、具有高转印性的反射型光掩模坯和反射型光掩模。本公开的一个方式涉及的反射型光掩模坯10具备：基板1、形成在基板1上的具有多层膜结构并反射EUV光的反射层2、形成在反射层2上并保护反射层2的保护层3、以及形成在保护层3上并吸收EUV光的吸收层4，吸收层4具备功能彼此不同的吸收层4a和吸收层4b，吸收层4具有190度以上270度以下范围内的相位差。
主权项：1.一种反射型光掩模坯，其特征在于，具备：基板、形成在所述基板上的具有多层膜结构并反射EUV光的反射层、形成在所述反射层上并保护该反射层的保护层、以及形成在所述保护层上并吸收EUV光的吸收层，所述吸收层由功能不同的2层以上的层叠结构构成，所述吸收层具有190度以上270度以下范围内的相位差。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 凸版光掩模有限公司 反射型光掩模坯以及反射型光掩模
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