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申请/专利权人:华南理工大学
摘要:本发明提供了一种可调节入射角度的材料常温方向发射率测量装置及方法,包括光源,光路系统设置于光源入射方向上;光谱探测器设置于光路系统的光路射出方向上。本发明采用上述的一种可调节入射角度的材料常温方向发射率测量装置及方法,能够快速准确测量在不同方向入射光条件下室温下材料表面各个方向的反射强度,进而根据基尔霍夫定律计算各个方向的发射率,测量时间短,能够适用于各种光滑和粗糙的材料表面。
主权项:1.一种可调节入射角度的材料常温方向发射率测量装置,其特征在于,包括光源,光路系统设置于光源入射方向上;光谱探测器设置于光路系统的光路射出方向上;所述光路系统包括固定设置在光传输方向的固定平面反射镜、半球抛物面镜,移动设置的第二平面反射镜。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 华南理工大学 一种可调节入射角度的材料常温方向发射率测量装置及方法
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