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申请/专利权人：北京万集科技股份有限公司
摘要：本申请提供一种模拟污染的设备，包括：激光雷达放置空间，用于放置待污染的激光雷达；污染参数设置模块，用于确定待污染的激光雷达的污染参数，污染参数包括污染方式、污染速度、污染时间、污染等级中的任意一项或多项；污染物喷射装置，用于向激光雷达放置空间喷射污染物；喷射控制装置，用于根据污染参数，控制污染物喷射装置喷射污染物。通过设置不同的污染参数对待污染的激光雷达进行不同程度的污染，且可以保证重复性。
主权项：1.一种模拟污染的设备，其特征在于，包括：激光雷达放置空间，用于放置待污染的激光雷达；污染参数设置模块，用于确定所述待污染的激光雷达的污染参数，所述污染参数包括污染方式、污染速度、污染时间、污染等级中的任意一项或多项；污染物喷射装置，用于向所述激光雷达放置空间喷射污染物；喷射控制装置，用于根据所述污染参数，控制所述污染物喷射装置喷射污染物。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京万集科技股份有限公司 一种模拟污染的设备
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