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申请/专利权人:深圳远荣半导体设备有限公司
摘要:一种流水式晶圆清洗机包括浸泡槽单元、刷洗槽单元以及风洗单元,晶圆存储架对接所述浸泡槽单元的入口,碾压式的传送带贯穿于所述浸泡槽单元、刷洗槽单元以及风洗单元,所述碾压式的传送带包括上下位置对应设置的上传送带和下传送带,所述上传送带的下表面与下传送带上表面之间的间距与晶圆直径相适应,所述由浸泡槽单元入口至刷洗槽单元出口的传送带呈逐步上升的坡道。本发明采用上述的结构设计,使得这种清洗机能够实现流水线式作业,提高清洗效率,并且可以加入自动化生产线中,采用分段式碾压驱动的设计,防止晶圆在流过流水线过程中将上工序的清洗液带到下工序的问题,延长清洗液的使用寿命。
主权项:1.一种流水式晶圆清洗机,其特征在于:该清洗机包括依次设置的浸泡槽单元100、刷洗槽单元200以及风洗单元300,晶圆存储架对接所述浸泡槽单元100的入口,碾压式的传送带10贯穿于所述浸泡槽单元100、刷洗槽单元200以及风洗单元300,所述碾压式的传送带10包括上下位置对应设置的上传送带11和下传送带12,所述上传送带11的下表面与下传送带12上表面之间的间距与晶圆直径相适应,所述上传送带11由第一驱动装置13驱动滚动,所述下传送带12由第二驱动装置14驱动滚动,所述第一驱动装置13和第二驱动装置14均受控于控制系统20,所述由浸泡槽单元100入口至刷洗槽单元200出口的传送带呈逐步上升的坡道。
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