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超低剖面堆叠RDL半导体封装件 

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申请/专利权人:高通股份有限公司

摘要:公开了超低剖面堆叠RDL半导体封装件。本文所述的具有堆叠RDL的半导体封装件的示例可以包括例如第一RDL和第二RDL,该第一RDL包括耦接到第二RDL的多个RDL层,该第二RDL包括使用铜柱和底部填充剂代替常规衬底的多个RDL层。本文的示例可以使用RDL代替衬底以实现更小的设计特征尺寸x、y尺寸减小、更薄的铜层和更少的金属使用z尺寸减小、在封装的任一侧附接半导体管芯和表面安装器件SMD的灵活性以及更少数量的构建RDL层。

主权项:1.一种半导体封装件,包括:第一再分布层RDL,其中所述第一RDL包括n个层;第二RDL,其中所述第二RDL包括m个层;连接层,耦接到所述第一RDL的第一侧和所述第二RDL的第一侧;第一表面安装器件SMD,耦接到所述第一RDL的与所述第一RDL的所述第一侧相对的第二侧;以及第二SMD,耦接到所述第二RDL的与所述第二RDL的所述第一侧相对的第二侧;其中所述连接层包括铜柱和底部填充剂的交替区域;并且其中所述连接层的至少一个铜柱不与所述第一RDL或所述第二RDL中的至少一个物理接触。

全文数据:

权利要求:

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