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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：一种用于辐射系统的激光系统的电光装置，该装置包括：电光元件，该电光元件具有第一表面和第二表面，该电光元件由对激光系统产生的激光束光学透明的材料形成；和抗反射结构，该抗反射结构由电光元件的第一表面和第二表面中的至少一者上的材料形成，该抗反射结构包括多个纳米结构。
主权项：1.一种用于辐射系统的激光系统的电光装置，所述装置包括：电光元件，所述电光元件具有第一表面和第二表面，所述电光元件由对所述激光系统产生的激光束光学透明的材料形成；和抗反射结构，所述抗反射结构由所述电光元件的所述第一表面和所述第二表面中的至少一个上的所述材料形成，所述抗反射结构包括多个纳米结构。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 电光装置
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