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摘要:本发明公开了一种塑封GaAs器件开封方法,包括:包括以下步骤:S1、将器件芯片表面的塑封料打薄;S2、将腐蚀液1水浴加热至75℃‑90℃,再用腐蚀液1对器件进行腐蚀至器件芯片露出;S3、用清洗液清洗,再用去离子水清洗后,烘干;S4、腐蚀液2对器件进行腐蚀,腐蚀时间为5s至15s;S5、用清洗液清洗,再用去离子水清洗。采用本方案设计的一种塑封GaAs器件开封方法不会损坏器件芯片钝化层和金属化层。
主权项:1.一种塑封GaAs器件开封方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、将器件芯片表面的塑封料打薄;S2、将腐蚀液1水浴加热至75℃-90℃,再用腐蚀液1对器件进行腐蚀至器件芯片露出;S3、用清洗液清洗,再用去离子水清洗后,烘干;S4、腐蚀液2对器件进行腐蚀,腐蚀时间为5s至15s;S5、用清洗液清洗,再用去离子水清洗;其中,腐蚀液1的组成以体积比计,包括硫酸:发烟硝酸:冰醋酸:去离子水=43.5-5:1.51.3-1.8:21.8-2.3:10.8-1.4;腐蚀液2的组成以体积比计,包括硫酸:去离子水=98.5-10:10.5-2。
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