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一种稳态热阻的平板式半导体器件 

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申请/专利权人:杭州谱析光晶半导体科技有限公司

摘要:本发明公开了一种稳态热阻的平板式半导体器件,本发明涉及半导体功率器件技术领域,包括漏极金属层,漏极金属层的上方设置有衬底层,衬底层的上方设置有N+漂移区,N+漂移区的上方设置有半导体层,半导体层的上方两侧分别设置有导电接触层和导电金属层,导电接触层和导电金属层的上方分别设置有第二绝缘层和N-漂移区,N-漂移区和导电接触层之间设置有一号波形沟槽和二号波形沟槽,导电接触层的上方设置有第二绝缘层。该稳态热阻的平板式半导体器件,便于控制导通过程中的电流大小,提高半导体器件的工作稳定性与可靠性,且能够给封装后的元器件提供较高的安全性能,实现平板式半导体结构安装使用的便利高效性。

主权项:1.一种稳态热阻的平板式半导体器件,包括漏极金属层13,其特征在于,所述漏极金属层13的上方设置有衬底层1,所述衬底层1的上方设置有N+漂移区2,所述N+漂移区2的上方设置有半导体层3,所述半导体层3的上方两侧分别设置有导电接触层4和导电金属层11,所述导电接触层4和导电金属层11的上方分别设置有第二绝缘层15和N-漂移区6,所述N-漂移区6和导电接触层4之间设置有一号波形沟槽7和二号波形沟槽8,所述导电接触层4的上方设置有第二绝缘层15,所述第二绝缘层15和N-漂移区6的上方均设置有P+区16,两个所述P+区16的上方共同设置有深沟槽电极5,所述深沟槽电极5内设置有源极金属层10,所述衬底层1半导体层3的上方均设置有碳化硅曝光层9。

全文数据:

权利要求:

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