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申请/专利权人：三星电子株式会社
摘要：提供了一种集成电路装置。所述集成电路装置包括：基底，包括彼此相对的第一表面和第二表面；鳍型有源区域，在第一方向上从基底的第一表面延伸；沟道结构，在鳍型有源区域的上表面上，并且包括沟道区域；源极漏极区域，在鳍型有源区域的上表面上；栅极线，在基底上沿着垂直于第一方向的第二方向延伸，设置在基底上，并且围绕沟道结构；以及隔离结构，竖直穿过基底和鳍型有源区域，并且位于源极漏极区域的一侧，其中，沟道结构、源极漏极区域和隔离结构在第一方向上顺序地布置。
主权项：1.一种集成电路装置，所述集成电路装置包括：基底，包括彼此相对的第一表面和第二表面；鳍型有源区域，在第一方向上从基底的第一表面延伸沟道结构，在鳍型有源区域的上表面上，并且包括沟道区域；源极漏极区域，在鳍型有源区域的上表面上；栅极线，在基底上，在垂直于第一方向的第二方向上延伸，并且围绕沟道结构；以及隔离结构，竖直穿过基底和鳍型有源区域，并且位于源极漏极区域的一侧，其中，沟道结构、源极漏极区域和隔离结构在第一方向上顺序地布置。
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