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申请/专利权人：新特能源股份有限公司;新疆新特晶体硅高科技有限公司
摘要：本发明公开了一种多晶硅生产中潜在杂质存在形式筛选方法及系统，该方法包括以下步骤：1确定杂质生成反应参与物质；2确定反应方程；3建模并优化；4计算吉布斯自由能；5计算溶剂化自由能；6对所有的信息进行综合筛选，最终确定符合存在条件的潜在杂质存在形式。利用本发明基于密度泛函理论计算方法，解决了多晶硅精馏提纯过程中杂质具体存在形式确定的问题。本发明解决了现有技术条件下实验检测方法无法解决的问题，对于后续多晶硅生产中痕量杂质去除具有重要的意义。该方法节约了大量分析检测费用，对多晶硅产业中使用的吸附剂、络合剂的开发及优化具有重要意义。
主权项：1.一种多晶硅生产中潜在杂质存在形式筛选方法，其特征在于，包括以下步骤：1确定杂质生成反应参与物质：根据三氯氢硅的沸点、相对分子质量物理性质、现有检测技术手段测试得到的杂质存在元素种类，筛选参与杂质生成反应的反应物、生成物的具体存在形式；2确定反应方程：分析杂质生成反应的反应物性质及合成反应体系的反应条件，根据物质守恒定律及热力学基本定律确定杂质生成反应的生成物，确定生成物状态，建立杂质生成反应的反应方程；3建模并优化：构建步骤2确定的杂质生成反应中所有反应物及生成物的模型，并对建构的模型进行能量最小化结构优化和振动分析，得到的模型作为初始模型；4计算吉布斯自由能：计算初始模型中确定的杂质生成反应方程式的吉布斯自由能变，对参与杂质生成反应的反应物、生成物进行筛选；5计算溶剂化自由能：计算步骤4中筛选后剩余物质的隐式溶剂模型下的溶剂化自由能；6对所有的信息进行综合筛选，最终确定符合存在条件的潜在杂质存在形式。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 新特能源股份有限公司 新疆新特晶体硅高科技有限公司 多晶硅生产中潜在杂质存在形式筛选方法及系统
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