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一种可实现低温热处理工艺的快速热处理炉 

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申请/专利权人:西安和其光电科技股份有限公司

摘要:本发明涉及用于处理晶圆的快速热处理炉,具体涉及一种可实现低温热处理工艺的快速热处理炉,用于解决辐射高温计需要在更短波长范围内进行测温以避开卤素加热灯的热辐射干扰,但在低温和短波长条件下,辐射高温计测得的辐射信号强度不足,信噪比不满足测温需求的不足之处。该可实现低温热处理工艺的快速热处理炉通过在保护层上增加覆盖辐射测温系统工作波段的截止膜,排除了卤素加热灯对于辐射测温系统的测量干扰,使得辐射测温系统可以测得更低温度下晶圆的辐射信号,扩展了RTP的低温工艺范围,测温下限可以达到170℃或更低,对晶圆热处理的技术进步具有重要意义。

主权项:1.一种可实现低温热处理工艺的快速热处理炉,包括加热腔室1和工艺腔室2;其特征在于:所述加热腔室1位于工艺腔室2上方,内部为加热腔,底端为透明的保护层11,加热腔室1内设置有加热组件,加热组件包括蜂窝结构排列的多个卤素加热灯3;所述工艺腔室2内部为工艺腔,顶面为透明材质,工艺腔内设置有托盘4、机械控制系统和辐射测温系统5;所述托盘4上开设有用于设置晶圆01的安装孔,所述机械控制系统用于驱动托盘4旋转,从而带动晶圆01旋转;所述辐射测温系统5位于晶圆01下方;所述保护层11上设置有截止膜,截止膜的滤光范围包含辐射测温系统5的工作波段。

全文数据:

权利要求:

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