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申请/专利权人：北京空间机电研究所
摘要：本发明公开一种提高干法刻蚀精度的薄膜辅助方法和干法刻蚀产品。在待刻材料表面设计一刻蚀监控区A，通过监控A区的材料刻蚀情况来得到器件刻蚀区域B的材料刻蚀情况。通常在材料刻蚀前，会在待刻蚀材料的表面生长一层介质层，用来作为材料刻蚀的掩膜层。将A区掩膜层设计为具有周期性图案的介质薄膜。在材料刻蚀过程中，通过该具有周期性图案的薄膜对EPD信号进行调制和放大，从而加强EPD信号的强度和可分析性。通过监控区的材料刻蚀情况来得到器件区的材料刻蚀情况。周期性图案覆盖区域与从待刻蚀材料区域反射回的光发生干涉叠加，不仅改善了EPD监控曲线的形态，还提高了其强度，使得原本难以监控的薄膜厚度变化变得可实时精确监控。
主权项：1.一种干法刻蚀产品，包括层叠设置的待刻蚀材料和掩膜层材料；其特征在于，干法刻蚀产品划分为刻蚀监控区A和器件刻蚀区域B，器件刻蚀区域B应用的掩膜层图案为器件图案，刻蚀监控区A应用的掩膜层图案为周期性图案；所述周期性图案包括多个图案单体，每个图案单体呈环形，多个图案单体呈M行、N列阵列排布；未被周期性图案覆盖的待刻蚀材料表面完全露出；在刻蚀监控区A和器件刻蚀区域B同时刻蚀的过程中，所述刻蚀监控区A用于执行刻蚀监控以获取EPD信号，EPD信号的预设刻蚀终点和器件刻蚀区域B的预设刻蚀深度对应。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京空间机电研究所 一种提高干法刻蚀精度的薄膜辅助方法和干法刻蚀产品
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