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全氟酞菁铜在制备钙钛矿埋底界面修饰层或制备钙钛矿层埋底界面修饰剂中的应用 

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申请/专利权人:广东工业大学

摘要:本发明公开了全氟酞菁铜在制备钙钛矿埋底界面修饰层或制备钙钛矿层埋底界面修饰剂中的应用。本发明的全氟酞菁铜作为埋底界面修饰剂可以改善钙钛矿层和空穴传输层之间的界面接触,高度氟化的全氟酞菁铜产生更为疏水的埋底界面,促使钙钛矿晶粒纵向生长,调节钙钛矿层的结晶生长和形貌,从而更有利于加速载流子的传输。同时,氟原子具有较强的电负性,可以有效抑制钙钛矿层和空穴传输层间有害的氧化还原反应,减少非辐射复合,实现了提高太阳能电池的光电转化效率和稳定性的目的。

主权项:1.全氟酞菁铜在制备钙钛矿埋底界面修饰层或制备钙钛矿层埋底界面修饰剂中的应用。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 广东工业大学 全氟酞菁铜在制备钙钛矿埋底界面修饰层或制备钙钛矿层埋底界面修饰剂中的应用

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