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用于优化以成像为基础的覆盖度量的聚焦的系统及方法 

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申请/专利权人:科磊股份有限公司

摘要:本申请实施例涉及用于优化以成像为基础的覆盖度量的聚焦的系统及方法。本发明揭示用于凭借具有光学相干断层摄影术OCT聚焦系统的干涉仪装置通过分别引导经重叠测量波前及参考波前朝向聚焦传感器及朝向成像传感器进行聚焦且测量的方法及系统;其中引导所述经重叠波前的预定义聚焦照明光谱朝向所述聚焦传感器,且其中引导所述经重叠波前的预定义测量照明光谱朝向所述成像传感器。本发明揭示用于在样品的载物台移动期间,维持具有OCT聚焦系统的干涉仪装置的聚焦的方法及系统。

主权项:1.一种度量及检验系统,其包括:光学度量工具,其具有含光学耦合到第一物镜的第一光束分离器的光学柱,其中所述光学度量工具经配置以在预定测量光谱内执行光学度量;及光学相干断层摄影术聚焦系统,其包括:第二物镜及参考表面,其与所述第一光束分离器布置成干涉仪配置,及第二光束分离器,其光学耦合到所述第一光束分离器的输出波前;其中所述参考表面是经配置以仅反射预定聚焦光谱内的照明的二向色反射器且在所述预定测量光谱内衰减光;及所述光学相干断层摄影术聚焦系统进一步包括:聚焦光谱滤光器轮,其光学耦合于所述第二光束分离器与聚焦传感器之间,其经配置以将所述预定聚焦光谱内的照明引导到所述聚焦传感器;及成像光谱滤光器轮,其光学耦合于所述第二光束分离器与成像传感器之间,其经配置以引导所述预定测量光谱内的照明到所述成像传感器。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 科磊股份有限公司 用于优化以成像为基础的覆盖度量的聚焦的系统及方法

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