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一种半导体清洗设备的清洗槽及半导体清洗设备 

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摘要:本发明适用于半导体清洗技术领域,提供了一种半导体清洗设备的清洗槽及半导体清洗设备,包括底座,其特征在于:所述底座底部固定连接有多个支撑杆,所述底座顶部固定连接有清洗槽本体,所述清洗槽本体底部连通设置有第一排液管,所述第一排液管贯穿底座设置,所述清洗槽本体一侧设有固定柱,所述固定柱底部与底座固定连接,所述固定柱一侧设有用于对半导体进行安装和定位的安装机构。本发明通过上料机构和固定结构的配合,可以同时对多个半导体晶圆进行固定,且配合角度调节结构可以同时对多个半导体晶圆的位置进行调节,同时可以根据需求可以选择对半导体晶圆集中清洗或单独清洗,从而有利于提高装置的适用范围。

主权项:1.一种半导体清洗设备,包括底座1,其特征在于:所述底座1底部固定连接有多个支撑杆11,所述底座1顶部固定连接有清洗槽本体12,所述清洗槽本体12底部连通设置有第一排液管13,所述第一排液管13贯穿底座1设置,所述清洗槽本体12一侧设有固定柱14,所述固定柱14底部与底座1固定连接,所述固定柱14一侧设有用于对半导体进行安装和定位的安装机构2;所述安装机构2包括用于对半导体进行安装的固定结构21,以及用于驱动半导体于清洗槽内进行清洗的第一驱动结构22,所述固定结构21数量设为多个,多个所述固定结构21同轴分布;所述固定柱14与安装机构2之间设有用于对安装机构2位置进行调节的位置调节机构3;所述底座1顶部设有用于对半导体进行药业浸泡的浸泡机构4,所述浸泡机构4包括浸药槽41和第二驱动结构42,所述浸药槽41底部与底座1固定连接,所述浸药槽41底部连通设置有第二排液管43,所述第二排液管43贯穿底座1设置;所述底座1顶部还设置有用于对半导体进行单独清洗的清洗机构5;所述底座1顶部还设置有用于对半导体进行上料的上料机构6。

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