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摘要：本发明公开了一种温度控制系统、方法及原子层沉积设备，该温度控制系统应用于原子层沉积设备，所述原子层沉积设备包括反应腔，所述温度控制系统包括：加热部，设置于反应腔的一侧；冷却部，设置于加热部远离所述反应腔的一侧，其中，所述加热部和冷却部中的至少一个为活动设置；调节部，与加热部和或冷却部连接，用于调节加热部和冷却部之间的间距；控制单元，与调节部连接，用于采集加热部的加热温度，并根据加热温度对调节部进行控制，以调节加热部和冷却部之间的间距。本发明通过控制单元采集加热部的加热温度，然后根据加热温度对调节部进行调节，从而调节加热部和冷却部之间的间距，如此便可以实现对于原子层沉积设备的精准加热控制。
主权项：1.一种温度控制系统，应用于原子层沉积设备，所述原子层沉积设备包括反应腔，其特征在于，所述温度控制系统包括：加热部，设置于所述反应腔的一侧；冷却部，设置于所述加热部远离所述反应腔的一侧，其中，所述加热部和冷却部中的至少一个为活动设置；调节部，与所述加热部和或冷却部连接，用于调节所述加热部和冷却部之间的间距；控制单元，与所述调节部连接，用于采集所述加热部的加热温度，并根据所述加热温度对所述调节部进行控制，以调节所述加热部和冷却部之间的间距。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 拓荆科技(上海)有限公司 一种温度控制系统、方法及原子层沉积设备
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