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摘要：一种电化学沉积设备，包括：具有容纳槽的工艺槽体，所述容纳槽用于容纳电镀液；具有承载面的基板载具，所述承载面用于承载待镀膜的基板，所述基板载具的至少一部分位于所述容纳槽中；至少一个驱动组件，所述驱动组件设置所述工艺槽体上，用于控制所述基板载具沿第一平面移动，所述第一平面与所述承载面的法线方向交叉。
主权项：一种电化学沉积设备，包括：具有容纳槽的工艺槽体，所述容纳槽用于容纳电镀液；具有承载面的基板载具，所述承载面用于承载待镀膜的基板，所述基板载具的至少一部分位于所述容纳槽中；至少一个驱动组件，所述驱动组件设置所述工艺槽体上，用于控制所述基板载具沿第一平面移动，所述第一平面与所述承载面的法线方向交叉。
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百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 电化学沉积设备
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