Document
拖动滑块完成拼图
首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

用于抑制泄漏的背侧深沟槽隔离结构 

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

摘要:本公开涉及一种用于抑制泄漏的背侧深沟槽隔离结构。一种像素阵列衬底包含:半导体衬底,其包含像素阵列、第一侧及与所述第一侧相对的第二侧;保护环区,其在所述半导体衬底中,由经掺杂半导体形成,围封所述像素阵列,且从所述第一侧延伸到所述半导体衬底中;及外围区,其在所述半导体衬底中且围封所述保护环区。所述外围区包含至少一个装置及在所述保护环区与所述至少一个装置之间且接近所述半导体衬底的所述第二侧安置的深沟槽隔离DTI结构区。所述DTI结构区经配置以阻断所述保护环区中的P‑N结与所述至少一个装置之间的电流路径。

主权项:1.一种像素阵列衬底,其包括:半导体衬底,其包含像素阵列、第一侧及与所述第一侧相对的第二侧;保护环区,其在所述半导体衬底中,由经掺杂半导体形成,围封所述像素阵列,且从所述第一侧延伸到所述半导体衬底中;及外围区,其在所述半导体衬底中且围封所述保护环区,其中所述外围区包含:至少一个装置;及深沟槽隔离结构区,其在所述保护环区与所述至少一个装置之间且接近所述半导体衬底的所述第二侧安置,其中所述深沟槽隔离结构区经配置以阻断所述保护环区中的P-N结与所述至少一个装置之间的电流路径。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 豪威科技股份有限公司 用于抑制泄漏的背侧深沟槽隔离结构

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。