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一种用于铜蚀刻液的pH值调节装置 

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摘要:本实用新型涉及一种用于铜蚀刻液的pH值调节装置,属于pH调节技术领域,包括底板,所述底板的上端安装有调节箱,所述调节箱的内部一侧安装有温度检测装置,所述调节箱的内部另一侧安装有pH检测装置,所述调节箱的上端中心位置安装有搅拌机构,所述调节箱的上端侧边安装有内壁清洁机构,所述调节箱的上端拐角处安装有控制板,所述底板的上端一侧安装有酸性pH调节溶液调节罐,该机构可以通过控制板根据pH检测装置检测到的溶液pH值,随后控制水泵自动加注酸碱pH调节剂,从而制备特定pH值的铜蚀刻液,另外,该机构可以在设备使用完毕后对调节箱的内壁进行清洁,避免调节箱内壁的残留物影响对于设备二次制备铜蚀刻液的精准度。

主权项:1.一种用于铜蚀刻液的pH值调节装置,包括底板1,其特征在于:所述底板1的上端安装有调节箱2,所述调节箱2的内部一侧安装有温度检测装置7,所述调节箱2的内部另一侧安装有pH检测装置4,所述调节箱2的上端中心位置安装有搅拌机构6,所述调节箱2的上端侧边安装有内壁清洁机构8,所述调节箱2的上端拐角处安装有控制板15,所述底板1的上端一侧安装有酸性pH调节溶液调节罐11,所述底板1的上端一侧靠近酸性pH调节溶液调节罐11的位置安装有碱性pH调节溶液调节罐12,所述酸性pH调节溶液调节罐11的侧边安装有水泵一10,所述水泵一10的另一端安装有酸性进液管9,所述碱性pH调节溶液调节罐12的侧边安装有水泵二13,所述水泵二13的另一端安装有碱性进液管14,所述底板1的上端另一侧安装有储水罐3,所述储水罐3的侧边安装有水泵三16,所述水泵三16的另一端安装有进水管5。

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