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摘要：本发明涉及掩膜版制造，具体涉及一种掩膜版斜线图形的补偿方法，构建椭圆形卷积核，并使用椭圆形卷积核对所有斜线图形进行卷积操作；对于第一斜线图形，在椭圆形卷积核中加入补偿量，并使用补偿后的椭圆形卷积核对第一斜线图形进行卷积操作；对于第二斜线图形，构建合适的卷积核，并使用构建的卷积核对第二斜线图形进行卷积操作；本发明提供的技术方案能够有效克服现有技术所存在的不同角度的斜线图形补偿效果较差的缺陷。
主权项：1.一种掩膜版斜线图形的补偿方法，其特征在于：包括以下步骤：S1、构建椭圆形卷积核，并使用椭圆形卷积核对所有斜线图形进行卷积操作；S2、对于第一斜线图形，在椭圆形卷积核中加入补偿量，并使用补偿后的椭圆形卷积核对第一斜线图形进行卷积操作；S3、对于第二斜线图形，构建合适的卷积核，并使用构建的卷积核对第二斜线图形进行卷积操作。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 合肥清溢光电有限公司 一种掩膜版斜线图形的补偿方法
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