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摘要：本文讨论的磁性隧道结MTJ结构的实施方式采用了铬Cr、NiCr、NiFeCr、RuCr、IrCr或CoCr或前述的组合的一或多个层的种晶层。这些种晶层与一或多个钉扎层组合使用，与该种晶层接触的第一钉扎层可含有钴的单层，或可含有钴与钴及铂Pt、铱Ir、镍Ni或钯Pd的双层的组合。第二钉扎层可为与第一钉扎层相同的成分和配置，或与之不同的成分或配置。本文讨论的MTJ堆叠在高温退火后维持期望的磁特性。
主权项：1.一种器件，包含：磁性隧道结堆叠，包含：种晶层，接触缓冲层，其中所述种晶层包含铬Cr；第一钉扎层，接触所述种晶层，其中所述第一钉扎层包含多个双层，其中所述多个双层中的各双层包含：第一夹层及第二夹层，所述第一夹层由钴Co形成，且所述第二夹层由铂Pt、铱Ir、镍Ni或钯Pd形成；耦合层，接触所述第一钉扎层；第二钉扎层，接触所述耦合层，结构阻挡层，接触所述第二钉扎层；磁性参考层，接触所述结构阻挡层；隧道势垒层，接触所述磁性参考层；和磁性存储层，接触所述隧道势垒层。
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百度查询： 应用材料公司 磁性隧道结结构及其制造方法
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