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申请/专利权人：应用材料公司
申请日：2020-08-24
公开（公告）日：2025-02-14
公开（公告）号：CN119427196A
专利技术分类：.适用于加工平面的[2012.01]
专利摘要：一种用于化学机械抛光的承载头，包含：基座组件连接至所述基座组件的膜组件。所述膜组件包含：膜支撑件、固定至所述膜支撑件的内膜、和固定至所述膜支撑件并且在所述内膜下方延伸的外膜，其中所述内膜在膜的上表面与所述膜支撑件之间形成多个可单独加压的内部腔室，所述外膜具有内表面和外表面，其中所述外膜在所述外膜的所述内表面与所述内膜的下表面之间界定下部可加压腔室，其中所述内表面被定位成在所述多个腔室中的一个或多个腔室被加压时与所述内膜的下表面接触，并且其中所述外表面被配置为接触基板。
专利权项：1.一种用于化学机械抛光的承载头，包含：基座组件；和膜组件，连接至所述基座组件，所述膜组件包含：膜支撑件，内膜，固定至所述膜支撑件，其中所述内膜在所述膜的上表面与所述膜支撑件之间形成多个可单独加压的内部腔室，其中所述多个可单独加压的内部腔室中的每个腔室由所述内膜的底部和两个侧壁部分设置，并且其中用于相邻腔室的侧壁部分被间隙隔开，并且其中用于相邻腔室的侧壁部分由从所述侧壁部分的顶部边缘延伸的桥接部分连接，和外膜，固定至所述膜支撑件并且在所述内膜下方延伸，所述外膜具有内表面和外表面，其中所述外膜在所述外膜的所述内表面与所述内膜的下表面之间界定下部可加压腔室，使得由所述下部可加压腔室在所述间隙中施加最小的压力，其中所述内表面被定位成在所述多个腔室中的一个或多个腔室被加压时与所述内膜的下表面接触，并且其中所述外表面被配置为接触基板。
百度查询： 应用材料公司 用于化学机械抛光的双膜承载头
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